中国光刻工厂技术原理,光刻工厂与光刻机的区别,解释明白了!

发布时间:2023-09-16 12:57:07 来源:96845 编 辑:9万精品
随着华为MATE60的发布,我们中国人终于很大程度上突破了美国为首的芯片封锁,制造出来了7nm的芯片,根据国外的拆解证明,华为的7nm芯片全完是国产化的,这打了很多人的脸,曾几何时,网络上充斥着各种言论,声称制造先进的光刻机比造原子弹还要难上一万倍...中国在封锁的情况下芯片产业彻底完蛋了,是不可能造出低纳米的芯片的,然而仅仅过了三年,聪明的中国人民就制造出来了7nm的芯片,跟最先进的工艺仅仅相差了3-5年的时间!!



那么,我们是否造出来了先进的光刻机呢??目前从各种汇总的资料来看,我们还没有最先进的光刻机,我们先进芯片用的是“光刻厂”(或者大型光刻机)的技术,长期以来工业的发展都是小型化、集成化的发展,荷兰的光刻机就是典型的代表,而我们为了突破封锁,来了一个逆向思维,将光刻机大型化、工厂化,荷兰的光刻机和我们的光刻厂的区别解释如下,用三种解释说明白:

解释一:通俗的解释就是把不同波段的光看做一堆大小不等的球,光刻机中需要一个过滤装置去得到特定大小的球,ASML牛逼的地方在于能在几米的光路中就把需要的7nm球给找出来,其余不需要的就过滤掉了!现在中国搞的这个思路,就是几米路线我过滤不出来,就把这个路线给搞成几千米环形跑道,大小不同的球,在这个跑道内越跑差距越大,而相同大小的球,则会聚集在特定的区间内。最终的结果就是 我们一个环形跑道内,会产生1纳米到100纳米的不同区间。



解释二:简单来说,我们不能像阿斯麦那样精准地生产出某一个频率的极紫外光,但是我们可以批量生产出一个连续的光谱,然后用电磁轨道把它们过滤开(可以看做三棱分光镜的高级版),这个区间是波长5纳米的,那个区间是波长14纳米的,这个区间是28纳米的,各种光刻机按需要接入光口,就是一个车间同时生产各种芯片。因为是大工厂批量出光,所以功率可以做得很大。因为大部分频段的光都用上而不像阿斯麦一样把它过滤掉,所以我们的能源利用比他们高到天上去了。

解释三:别人的热水器温控牛逼,要几度就是几度,精确到小数点后好几位。我们做不出来,就建了一个500米的大水塔,最底下烧火,下面热了,上面还是凉的。你要多少度,就去哪个高度装水龙头。

 
只能说,遥遥领先。难怪荷兰阿斯麦的总裁说14亿中国人里面有很多很聪明的,他们能想到新的方法绕开技术壁垒。