中国光刻工厂技术原理，光刻工厂与光刻机的区别，解释明白了！
发布时间:2023-09-16 12:57:07 来源:96845 编 辑：9万精品
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随着华为MATE60的发布，我们中国人终于很大程度上突破了美国为首的芯片封锁，制造出来了7nm的芯片，根据国外的拆解证明，华为的7nm芯片全完是国产化的，这打了很多人的脸，曾几何时，网络上充斥着各种言论，声称制造先进的光刻机比造原子弹还要难上一万倍...中国在封锁的情况下芯片产业彻底完蛋了，是不可能造出低纳米的芯片的，然而仅仅过了三年，聪明的中国人民就制造出来了7nm的芯片，跟最先进的工艺仅仅相差了3-5年的时间！！
 那么，我们是否造出来了先进的光刻机呢？？目前从各种汇总的资料来看，我们还没有最先进的光刻机，我们先进芯片用的是“光刻厂”（或者大型光刻机）的技术，长期以来工业的发展都是小型化、集成化的发展，荷兰的光刻机就是典型的代表，而我们为了突破封锁，来了一个逆向思维，将光刻机大型化、工厂化，荷兰的光刻机和我们的光刻厂的区别解释如下，用三种解释说明白：
解释一：通俗的解释就是把不同波段的光看做一堆大小不等的球，光刻机中需要一个过滤装置去得到特定大小的球，ASML牛逼的地方在于能在几米的光路中就把需要的7nm球给找出来，其余不需要的就过滤掉了！现在中国搞的这个思路，就是几米路线我过滤不出来，就把这个路线给搞成几千米环形跑道，大小不同的球，在这个跑道内越跑差距越大，而相同大小的球，则会聚集在特定的区间内。最终的结果就是 我们一个环形跑道内，会产生1纳米到100纳米的不同区间。
解释二：简单来说，我们不能像阿斯麦那样精准地生产出某一个频率的极紫外光，但是我们可以批量生产出一个连续的光谱，然后用电磁轨道把它们过滤开（可以看做三棱分光镜的高级版），这个区间是波长5纳米的，那个区间是波长14纳米的，这个区间是28纳米的，各种光刻机按需要接入光口，就是一个车间同时生产各种芯片。因为是大工厂批量出光，所以功率可以做得很大。因为大部分频段的光都用上而不像阿斯麦一样把它过滤掉，所以我们的能源利用比他们高到天上去了。
解释三：别人的热水器温控牛逼，要几度就是几度，精确到小数点后好几位。我们做不出来，就建了一个500米的大水塔，最底下烧火，下面热了，上面还是凉的。你要多少度，就去哪个高度装水龙头。 
只能说，遥遥领先。难怪荷兰阿斯麦的总裁说14亿中国人里面有很多很聪明的，他们能想到新的方法绕开技术壁垒。
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